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科民ALD實(shí)現高質(zhì)量依(Ir)單質(zhì)沉積
- 分類(lèi)：公司新聞
- 發(fā)布時(shí)間：2019-01-10
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【概要描述】金屬銥單質(zhì)在光學(xué)器件、催化等領(lǐng)域具有廣泛的應用前果?？泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點(diǎn)，成功實(shí)現高質(zhì)量單質(zhì)銥SEM結果顯示(Ir）鍍膜均勻,無(wú)空隙，完全滿(mǎn)足高端用戶(hù)的需求。
科民ALD實(shí)現高質(zhì)量依(Ir)單質(zhì)沉積
【概要描述】金屬銥單質(zhì)在光學(xué)器件、催化等領(lǐng)域具有廣泛的應用前果?？泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點(diǎn)，成功實(shí)現高質(zhì)量單質(zhì)銥SEM結果顯示(Ir）鍍膜均勻,無(wú)空隙，完全滿(mǎn)足高端用戶(hù)的需求。
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金屬銥單質(zhì)在光學(xué)器件、催化等領(lǐng)域具有廣泛的應用前果?？泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點(diǎn)，成功實(shí)現高質(zhì)量單質(zhì)銥SEM結果顯示(Ir）鍍膜均勻,無(wú)空隙，完全滿(mǎn)足高端用戶(hù)的需求。
SEM 50K:ALD Ir thin film、PEALD設備
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